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產品技術
泛半導體
iTomic? Lite系列輕型原子層沉積系統
iTomic? Lite輕型系列原子層沉積系統采用原創設計開發的自動化平臺與模塊化ALD反應腔相結合，以國產化零部件為主導，可以按需配置PEALD或Thermal ALD等工藝需求。Lite ALD系列設備具有強大的兼容性，其硬件配置在保持量產機型強大功能的前提下，可滿足各類晶圓尺寸（6、8英寸）量產工藝需求，同時也可滿足客戶高端研發和新工藝試量產需求。Lite ALD系列可廣泛應用于MEMS、光電器件等泛半導體器件領域。
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產品特點
靈活兼容Thermal ALD和PEALD工藝應用
1
自由配置半自動或全自動系統
2
薄膜材料：Al?O?、SiO?、TiO?、ZnO、氮化物等
3
滿足6、8英寸晶圓量產工藝需求
4
滿足高端研發客戶需求及新工藝的開發和量產
5
前臺熱線：
0510-81975900
公司地址：
江蘇省無錫市新吳區長江南路27號
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