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    CN
    創新驅動
    以原子層沉積（ALD）技術為核心
    化學氣相沉積（CVD）等多種真空薄膜技術梯次發展

    原子層沉積 (ALD)技術：

    可在復雜形貌上完成可控制在原子層精度的高質量薄膜沉積

    具有：

    三維共形性，廣泛適用于不同形狀的基底

    大面積成膜的均勻性，且致密、無針孔

    可實現亞納米級的薄膜厚度控制

    精確控制納米疊層和原子摻雜比例

    視頻播放

    研發創新

    20%

    +

    研發投入/營收

    56200

    ㎡

    生產研發基地

    3000

    +

    專有技術（項）

    35%

    +

    研發人員占比

    核心技術團隊

    專業團隊

    行業權威，擁有數十年ALD+CVD應用開發經驗

    工藝開發

    團隊工藝開發經驗豐富，已開發應用數10種氧化物，氮化物，金屬等材料

    專精ALD廠商

    專業ALD

    專注ALD工藝和應用場景，涵蓋半導體、新型顯示、新能源等行業

    專業解決方案

    針對客戶不同需求，專業化和定制化提出解決方案

    國內領先前瞻應用定制化

    前瞻應用

    精通ALD前瞻應用，滿足客戶各類先進性產品的需求

    定制開發

    精通ALD工藝及應用場景，為客戶定制化開發可量產的工藝及設備

    國內唯一全場景Demo設備線

    全場景Demo

    全場景Demo經驗豐富，為客戶提供全方位解決方案支持

    量產經驗

    在邏輯、存儲、化合物半導體等領域經過量產驗證，并獲得重復訂單

    智造創新

    我們推行精益生產管理，搭建智能制造協同平臺（簡稱MES），采用Smart Lable等智能工廠物流系統，實現了生產計劃排程、生產進度實時分析、生產資源有效分配、 產品質量安全追溯等，進一步縮短采購周期、提升生產效率、降低經營成本，以數字化、智能化制造賦能創新發展。

    半導體設備規劃產能

    總面積≈5000㎡，共三期
    年產能：140套

    光伏設備規劃產能

    總面積≈20000㎡
    月產能：ALD主機+自動化，40臺
    擴散/poly/退火/ALD/管P，60臺

    服務創新

    我們始終堅持以客戶為中心的服務理念，發揮本土供應商的優勢，為客戶提供量身定制的全方位服務，持續幫助客戶優化系統性能，減少成本，快速響應市場需求。
    提供專用/定制工具
    1/7
    質保期內365天*24小時技術支持
    2/7
    立即響應客戶端需求，重大疑問2小時內給出解決方案，24小時內到達現場處理
    3/7
    客戶端設立備件庫，關鍵/易損部件備貨100%，非常規件到達現場<36小時
    4/7
    質保結束后，每年現場協助客戶設備巡檢2次，軟件終身免費升級
    5/7
    項目有專職工程師跟蹤服務，專業專一
    6/7
    長期保存圖紙，20年零部件供應，解決后顧之憂
    7/7
    前臺熱線：
    0510-81975900
    公司地址：
    江蘇省無錫市新吳區長江南路27號
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